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鄭州大學(xué)Duo Pan,Hu Liu等-- MXene@c-MWCNT粘合二氧化硅納米纖維膜增強極端環(huán)境下的電磁干擾屏蔽和隔熱性能
       通過將二氧化硅納米纖維膜(SNM)與 MXene@c-MWCNT 混合薄膜相結(jié)合,制造出一種輕質(zhì)、柔性、熱穩(wěn)定的復(fù)合材料。由原硅酸四乙酯水解縮合,通過靜電紡絲和高溫煅燒制備出具有優(yōu)異隔熱性能的柔性SNM; MXene@c-MWCNTx:y 薄膜是通過真空過濾技術(shù)制備的。特別是,SNM 和 MXene@c-MWCNT6:4 作為一個單元層(SMC1)與 5 wt% 聚乙烯醇(PVA)溶液粘合在一起,具有低導(dǎo)熱率(0.066 W m−1 K−1)和良好的電磁干擾(EMI)屏蔽性能(平均EMI SET,37.8 dB)。隨著功能單元層數(shù)的增加,整個復(fù)合薄膜(SMCx)的整體隔熱性能保持穩(wěn)定,EMI屏蔽性能大大提高,特別是對于具有三個單元層的SMC3,平均EMI SET高達(dá)55.4 分貝。此外,剛性SNM和堅韌MXene@c-MWCNT6:4的有機結(jié)合使SMCx表現(xiàn)出良好的機械拉伸強度。重要的是,即使在極熱和極冷的環(huán)境下,SMCx 也能表現(xiàn)出穩(wěn)定的 EMI 屏蔽和出色的隔熱性能。因此,該工作為未來極端環(huán)保設(shè)備中使用的EMI屏蔽和隔熱組件提供了新穎的設(shè)計思路和重要的參考價值
 

圖 1 a、b SPNM 和 SNM 的數(shù)碼照片、c-f SEM 圖像和 g 纖維直徑尺寸分布。 h SPNM、SNM 和 PVA 的 TG 曲線。 i SPNM 和 SNM 的 ATR-FTIR 光譜。
 

圖 2 Ti3AlC2 的 SEM 圖像。 b 未經(jīng)超聲處理的多層 MXene 的 SEM 圖像。 c MXene 單層的 AFM 圖像和 SEM 圖像(插圖)。 d c-MWCNT 的 SEM 圖像。 e MXene@MWCNT6:4 和 MXene@c-MWCNT6:4 分散體在不同靜態(tài)時間下的數(shù)碼照片。 f MXene、c-MWCNT 和 MXene@c-MWCNT6:4 的 ATR-FTIR 光譜。
 

圖3 不同MXene和c-MWCNT重量比的MXene@c-MWCNTx:y的a-f表面和g-j、l橫截面的SEM圖像。 k MXene和c-MWCNT之間的氫鍵圖。
 

圖 4 a SPNM 和 SNM、b MXene@c-MWCNTx:y 和 c SMCx 的典型應(yīng)力-應(yīng)變曲線。 SMCx 的 d-f SEM 橫截面圖像和相應(yīng)的數(shù)碼照片。
 

圖 5 a MXene@c-MWCNTx:y 的電導(dǎo)率、薄層電阻和薄膜厚度,b-d X 頻段的 EMI SET、SER、SEA 性能,e 平均 EMI SET、SEA、SER 值和 f 功率系數(shù)。
 

圖 6 a-c SMCx 的 EMI SER、SEA 和 SET 性能,d 平均 EMI SET、SEA、SER 值和 e 功率系數(shù)。 f 經(jīng)過一系列極端環(huán)境測試后 SMC3 的 EMI 屏蔽性能。
 

圖 7a SPNM、SNM 和 SMCx 的熱導(dǎo)率。 b MXene@cMWCNT6:4、SNM和SMCx在高溫環(huán)境下的溫度-時間曲線和c相應(yīng)的紅外圖像。 d SNM和SMCx在極寒環(huán)境下的溫度-時間曲線和e對應(yīng)的紅外圖像。
 
 
圖8 SMCx的I EMI屏蔽和II隔熱機理圖。
 
相關(guān)科研成果由鄭州大學(xué)Duo Pan,Hu Liu等人于2024年發(fā)表在Nano-Micro Letters(https://doi.org/10.1007/s40820-024-01398-1)上。原文:MXene@c?MWCNT Adhesive Silica Nanofber Membranes Enhancing Electromagnetic Interference Shielding and Thermal Insulation  Performance in Extreme Environments
原文鏈接:https://doi.org/10.1007/s40820-024-01398-1

轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號
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